ኤፒታክሲያል (እድገት)የተቀላቀለ ጋs

በሴሚኮንዳክተር ኢንዱስትሪ ውስጥ በጥንቃቄ በተመረጠው ንኡስ ክፍል ላይ በኬሚካላዊ ትነት ክምችት አንድ ወይም ከዚያ በላይ የንብርብሮች ንብርቦችን ለማብቀል የሚውለው ጋዝ ኤፒታክሲያል ጋዝ ይባላል።

በብዛት ጥቅም ላይ የሚውሉት የሲሊኮን ኤፒታክሲያል ጋዞች ዲክሎሮሲላን፣ ሲሊኮን ቴትራክሎራይድ እና ናቸው።silane. በዋናነት ለኤፒታክሲያል ሲሊከን ማስቀመጫ፣ የሲሊኮን ኦክሳይድ ፊልም ማስቀመጫ፣ የሲሊኮን ናይትራይድ ፊልም አቀማመጥ፣ አሞርፎስ ሲሊኮን ፊልም ለፀሀይ ህዋሶች እና ለሌሎች የፎቶ ተቀባዮች ወዘተ ጥቅም ላይ ይውላል።

የኬሚካል የእንፋሎት ማጠራቀሚያ (ሲቪዲ) ድብልቅ ጋዝ

ሲቪዲ የተወሰኑ ንጥረ ነገሮችን እና ውህዶችን በጋዝ ደረጃ ኬሚካላዊ ምላሾች የሚተኑ ውህዶችን በመጠቀም የማስቀመጫ ዘዴ ሲሆን ማለትም የጋዝ ደረጃ ኬሚካላዊ ምላሾችን በመጠቀም ፊልም የመፍጠር ዘዴ ነው። በተፈጠረው ፊልም አይነት መሰረት ጥቅም ላይ የሚውለው የኬሚካል ትነት ክምችት (ሲቪዲ) ጋዝ እንዲሁ የተለየ ነው.

ዶፒንግየተቀላቀለ ጋዝ

ሴሚኮንዳክተር መሳሪያዎችን እና የተቀናጁ ወረዳዎችን በማምረት የተወሰኑ ቆሻሻዎች ወደ ሴሚኮንዳክተር ቁሶች ውስጥ ተጨምረዋል ። ቁሶች አስፈላጊውን conductivity አይነት እና resistors ለማምረት የተወሰነ resistivity, PN መጋጠሚያዎች, የተቀበሩ ንብርብሮች, ወዘተ ... በ doping ሂደት ውስጥ ጥቅም ላይ የዋለው ጋዝ ዶፒንግ ጋዝ ይባላል.

በዋናነት አርሲን ፣ ፎስፊን ፣ ፎስፈረስ ትሪፍሎራይድ ፣ ፎስፎረስ ፔንታፍሎራይድ ፣ አርሴኒክ ትሪፍሎራይድ ፣ አርሴኒክ ፔንታፍሎራይድ ፣ቦሮን ትራይፍሎራይድ፣ ዲቦራኔ ፣ ወዘተ.

ብዙውን ጊዜ የዶፒንግ ምንጭ ከምንጩ ካቢኔት ውስጥ ካለው ተያያዥ ጋዝ (እንደ አርጎን እና ናይትሮጅን ያሉ) ጋር ይደባለቃል። ከተደባለቀ በኋላ የጋዝ ፍሰቱ ያለማቋረጥ ወደ ማከፋፈያ ምድጃ ውስጥ በመርፌ ቫፈርን በመክበብ ዶፓኖችን በቫፈር ላይ በማስቀመጥ እና ከዚያም በሲሊኮን ምላሽ በመስጠት ወደ ሲሊከን የሚሸጋገሩ የዶፕ ብረቶች።

ማሳከክየጋዝ ድብልቅ

ማሳከክ (እንደ ብረት ፊልም ፣ ሲሊኮን ኦክሳይድ ፊልም ፣ ወዘተ) በ substrate ላይ የሚፈለገውን የኢሜጂንግ ጥለት ለማግኘት በፎቶሪሲስት ማስክ (photoresist masking) ሳይደረግ በ substrate ላይ ያለውን ሂደት (እንደ ብረት ፊልም ፣ ሲሊኮን ኦክሳይድ ፊልም ፣ ወዘተ) ማራቅ ነው።

የማሳከክ ዘዴዎች እርጥብ የኬሚካል ማሳከክ እና ደረቅ የኬሚካል ማሳከክን ያካትታሉ. በደረቅ ኬሚካላዊ ንክኪ ውስጥ ጥቅም ላይ የሚውለው ጋዝ ኤክቲክ ጋዝ ይባላል.

Etching ጋዝ ብዙውን ጊዜ ፍሎራይድ ጋዝ (halide) ነው፣ ለምሳሌካርቦን tetrafluoride, ናይትሮጅን trifluoride, trifluoromethane, hexafluoroethane, perfluoropropane, ወዘተ.